（一）非干涉式廣視野光學測繪術

李超煌（應科中心副研究員）  

      光學量測技術具有非接觸、快速顯像的特性，在複合材料或生物樣本的觀測上有很好的應用價值。在目前的光學量測技術中，干涉儀是公認具有奈米縱向解析率的標準技術。然而干涉儀需使用特殊光路架構或相位掃描機制，且訊號處理程序繁複，價格也甚昂貴。應科中心李超煌副研究員成功開發一種新型光學顯微科技，稱為「非干涉式廣視野光學測繪術」[1]。該技術是將本院已申請專利的「差動共焦顯微術」之原理運用於廣視野光學切片顯微鏡上，能以一般光學顯微鏡的架構得到樣本表面奈米縱向解析率的地形圖。...

（二）近場光學微影術

魏培坤（應科中心副研究員）

      在奈米光學中，一個很重要且基本的問題為如何去觀察奈米區域的光學特性，我們知道光學顯微技術受限於繞射限制，根據Rayleigh Criterion，它的極限為0.61λ/N.A. 其中N.A.為數值口徑，λ為波長，在空氣中我們所能看到的極限約為半個波長，因此在研究奈米級的光學性質時以一般的光學技術是不容易看到的。我們的研究以有別於以透鏡為主的遠場光學，利用奈米口徑產生僅存在於近場的光學衰減波(evanescent wave)，以其所特有的高橫向波向量對奈米結構進行掃瞄，達到突破繞射限制的光學解析度。此類近場光學顯微術的核心為一能產生奈米光點的探針，我們發展一種終端蝕刻技術可將一般光纖蝕刻成表面光滑具有數十奈米口徑的探針[1]。目前我們結合此光纖探針與原子力顯微技術，研究光在光子晶體結構上的傳播現象與應用。